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  光療的理論基礎是生物組織吸收光能并將光能轉化成熱能和化學能從而導致體內產生一系列連鎖的化學反應。光是一種電磁波,具有波粒二象性特征。不同波長的光具有不同的臨床治療效果。采用高功率半導體光源技術,多芯片集成技術,大功率固態光源輸出技術,從而產生特定波長的高光功率紅光用于人體,將光子能量有效滲透到皮下,紅光被細胞線粒體吸收后,促進細胞快速新陳代謝、肉芽組織生長,產生一定的治療作用。
  可廣泛應用與醫院各科室,對于術后難愈性創面、各種慢性創面及相關的疼痛、炎癥、糖尿病足、糖尿病創面、骨質疏松、痛風及褥瘡、瘺口等。
  具有以下生物學效應,因此,它的應用領域十分廣泛。

(1)促進傷口的修復愈合 
(2)清除體內自由基 
(3)使血液粘稠度下降 
(4)細胞功能能增加 
(5)使血液攜氧能力顯著升高 
(6)延緩皮膚衰老,具有美容功效 
(7)調節免疫功能

光的生物特性說明

紅外光主要是利用它的熱效應,機體吸收紅外光后引起體溫升高,血流速度加快,促進新陳代謝和細胞增生,由消炎和鎮痛作用。
紫外光主要利用它的高能輻射殺菌,治療各種病菌引起的皮膚病。
紅光產生光的生物化學反應酶促反應,使線粒體過氧化氫酶、超氧化物歧化酶等多種酶的活性得到激發,促進細胞的新陳代謝
藍光是紅橙光的生物作用的拮抗物,能漂白血液中的膽紅素,治療新生兒黃疸。
紅光光療:610nm~770nm的生物特效為通過生物化學效應,促進細胞快速生長,對于臨床創面、損傷等治療,所以為必選

半導體光源的治療機理

極大促進生物化學效應——酶促反應
顯著改善細胞有氧呼吸作用:促進細胞新陳代謝、肉芽組織生長、加速創面愈合
提高白血球的吞噬作用:自體消炎,提高機體免疫力
降低病癥部位五羥色胺(5-HT)含量:產生良好的鎮痛療效

半導體光源說明

矩陣集成高功率半導體固態光源優點:
光譜窄,無雜色光副作用(光色純、窄譜)
尺寸小,重量輕,可大功率電路集成化(功率大)
高亮度冷光源,光電轉換率高(高亮冷光源)
壽命長,亮度半衰期大于10萬小時(壽命長)
近些年,隨著半導體光源技術在功率和成本方面的突破,半導體高能紅光治療技術開始普遍進入臨床

矩陣集成高功率半導體固態光源

全新第三代高能光子治療儀,采用矩陣集成高能半導體固態光源,照射能量、臨床療效和使用壽命都全面超越第一代鹵素燈和第二代顆粒式LED光治療儀。

  采用大功率點陣芯片集成式半導體固態冷光源,利用高能量光子的光化學效應、光電磁效應、光壓強效應、光刺激效應、光熱效應等一系列綜合效應所帶來細胞的酶促反應,是糖元含量增加,蛋白合成增加和三磷酸腺苷分解增加,極大的促進組織細胞的有氧呼吸,從而迅速、顯著的提高受創組織的康復和創面的愈合,加快細胞的有絲分裂、促進肉芽生長、增強機體免疫功能、改善血液循環,減輕疼痛,具有量很高的局部抗感染作用,快讀促進傷口和潰瘍愈合。

● 促進光的生物化學效應——酶促反應;
● 顯著改善細胞有氧呼吸作用: 促進細胞新陳代謝、肉芽組織生長、加速創面愈合和病癥康復;
● 提高白血球的吞噬作用: 自體消炎,提高機體免疫力;
● 降低病癥部位五羥色胺(5-HT)含量: 產生良好的鎮痛療效。

LED整列固態冷光源
特定光譜的波長范圍
超大的光功率密度
360度旋轉的光源頭
精準的定時控制系統
多重安全及過熱保護
簡單方便的操作系統
工作穩定性價比高
安全耐用療效顯著

  采用半導體高能窄譜冷光源設計,熱量非常少。對于患者,操作者絕無輻射等危害,主要利用光生物化學效應進行治療,長時間使用也無任何灼傷、身體不適等副作用,利用無灼熱感的高功率光子能量直達皮下,對機體產生促進恢復作用,達到對于細胞及功能的實質性恢復作用,達到快速促進愈合的效果。

燒傷科:燒燙傷、凍瘡、糖尿病創面、褥瘡、促進肉芽組織生長、植皮成活、消除斑痕癢。
骨科:帶金屬固定物創面、截肢創面、骨傷創面、骨折不愈合、軟組織損傷、運動損傷。
普外科:手術切口脂肪液化、人工造瘺、微創術后體內炎癥、疼痛、創面濕疹。
內分泌科:糖尿病足、風濕性關節炎、類風濕性關節炎。
神經內外科:開顱術后頭皮創面、外周神經損傷、褥瘡、水腫。
血管科:靜脈置管瘺口不愈合、血管損傷、靜脈曲張導致疼痛及潰爛、靜脈炎。
ICU:大面積創傷創面、擠壓傷、藥疹、褥瘡。
腫瘤科:放射性組織壞死、放療創面、術后創面、口腔潰瘍、疼痛、靜脈炎。
門診換藥室:殘余創面、水腫、創面濕疹、毛囊炎、疼痛。
婦產科:術后脂肪液化、刀口不愈合、腫瘤術后創面、乳房手術后創面、宮頸糜爛、盆腔炎。
肛腸科:痔瘺術后難愈合創面、肛周膿腫引流術后創面、急性疼痛、肛周糜爛。
其它:各種急性炎癥、創傷性缺血性損傷、復雜難愈合創面、體內深層創面、潰瘍、壞疽、竇道、軟組織炎癥、水腫、肌肉及骨骼萎縮等退化性疾病。

照射治療前:對創面進行常規處理后,保持創面干凈、裸露,或覆蓋一層油紗,或采用相關半透明敷料。可配合對創面進行霧化治療,或噴灑生理鹽水、生長因子類藥物,保證創面濕潤,更有利于細胞生長。
照射治療中:使用光子治療儀中心照射創面部位,照射距離為20cm左右,有效照射面平均光密度為70mW/cm2左右,表面溫度在36℃左右。如患者創面對于溫度沒有嚴格要求,可酌情適當縮小照射距離,從而加大照射面的光功率密度,提升治療效果。每次治療單元為10分鐘,即有治療效果。治療一個治療單元后建議休息10分鐘,有利于細胞周圍氧濃度的恢復,之后再治療一個治療單元即10分鐘,累計起每次治療總時間在20~30分鐘。對于嚴重創面或炎癥較重病患,建議每天治療2~3次,累計每天治療時間在60分鐘左右。依據不同病情,7~10天為一療程。。
照射治療后:對照射治療后的創面進行觀察,如創面過于干燥,可適當霧化、噴灑生理鹽水等。可在創面表層覆蓋一層凡士林油紗布,或按常規方法包扎處理創面。

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